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江苏大学

  • 仪器名称:高真空电子束微观监测刻蚀系统
  • 价格型号:EVO MA10
  • 仪器分类:刻蚀设备
  • 应用领域:
  • 所属单位:江苏大学
  • 所在地点:
  • 产  地:
  • 产  商:德国Zeiss公司
  • 价  值:0
  • 购置日期:0000-00-00

技术指标:分辨率: 3.0nm@30KV(SE and W)2.0nm@30KV(SE with Lab6 option) 4.5nm@30KV(VP with BSD);加速电压: 0.2―30KV;放大倍数: 7―1000000x;视野范围: 6mm;X-射线参数: 8.5mmWD,35度接收角;压力范围: 10―400Pa;工作室: 310mm(φ)×220mm(h);5轴试样载物台: X=80mm Y=100mm Z=35mm T=0-90°R=360°;最大试样高度: 100mm;最大试样直径: 200mm;系统控制: 基于Windows XP的SmartSEM。

仪器用途:高真空条件下对金属、无机、聚合物、生物生命组织等多种材料、各种微结构进行结构表征和功能器件物理性能测试,以及具有纳米高空间分辨条件下进行电子束加工、改性等。

收费标准:电话联系商议

机组负责人:李保家  13913443010  

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