主要技术指标:真空度优于1*10-10torr
功能/应用范围:超高真空生长磁性金属超薄膜以及复杂氧化物薄膜
技术特色:能够生长各种台阶样品以及楔形样品,样品厚度误差可以控制在原子层级的尺度
主要测试和研究领域:电子/信息技术