复旦大学物理学系

主要技术指标：样品尺寸：2,4，6英寸基片，兼容加工小片和碎片；有加热和冷却装置；下电极温度范围-150°C…+400°C；刻蚀气体8路：HBr，SF6，C4F8, CHF3，BCl3, O2, N2, Ar。

功能/应用范围：反应离子刻蚀机通过交变的电磁场在有反应气体的腔室内激发等离子体，通过等离子体中的气体离子和化学活性的自由基与材料表面的化学反应和离子轰击材料表面的物理过程刻蚀材料。反应离子刻蚀机主要用于纳米和微米器件的精细加工，用于硅基材料、介电材料刻蚀、III-Ⅴ族化合物以及金属薄膜刻蚀。

主要测试和研究领域：仪器/仪表