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主要技术指标：CCD：100*1340pixels，CCD效率：400nm到900nm有85%以上的量子效率反射光栅：150G/mm，300G/mm，1200G/mmwith500nmblaze,150G/mmwith800nmblaze,300G/mm，1200G/mmwi......
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电子束蒸发系统 (Thin Film Depostion System)
主要技术指标：电子枪功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋转样品托(可液氮冷却)，坩埚5*2.24cc 功能/应用范围：蒸镀各种金属薄膜 主要测试和研究领域：电子/信......
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主要技术指标：测量模式：接触模式、轻巧模式、MFM、EFM、智能扫描模式、抬高模式、力曲线模式、TR-Mode、横向力模式、STM、C-AFM；XY方向不小于90µm×90µm，Z方向不小于10......
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主要技术指标：波长范围:345-2500nm;脉冲宽度:80-250fs;重复频率:80MHZ;平均功率:690–1040nm范围内>2.5W 功能/应用范围：c 主要测试和研究领域：其他......
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主要技术指标：分辨率：1.0nm@15kV、1.9nm@1kV；离子束分辨率：2.5nm@30kV;加速电压：0.1-30kV(SEM)、1-30kV(FIB) 功能/应用范围：用于各种微纳器件和低维纳米人工结构的制作，是......
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主要技术指标：系统的极限压强可达≤5x10-8Torr；30分钟从大气压抽到≤5x10-6Torr;坩埚的数目4个，坩埚的容量不小于7cc;电子枪功率不小于5kW。 功能/应用范围：主要用于......
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主要技术指标：样品尺寸：2,4，6英寸基片，兼容加工小片和碎片；有加热和冷却装置；下电极温度范围-150°C…+400°C；刻蚀气体8路：HBr，SF6，C4F8,CHF3，BCl3,O2,N2,Ar。......
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主要技术指标：该综合物性测量系统主机PPMS-9能提供9特斯拉强磁场环境；完全无液氦杜瓦系统P935A能提供极低温实验环境(1.9-400K)；选配的交直流磁学测量系统可测量材料的交流和直流磁化率、......
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超连续光纤激光器 (Supercontinuum fibre Lasers)
主要技术指标：该综合物性测量系统主机PPMS-9能提供9特斯拉强磁场环境；完全无液氦杜瓦系统P935A能提供极低温实验环境(1.9-400K)；选配的交直流磁学测量系统可测量材料的交流和直流磁化率、......
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主要技术指标：SHG：350-500nmTHG：240-320nm。相对于Mira900-D的转换效率SHG>15%(700-900nm);>10(900-1000nm);THG4(700-900nm);2(900-1000nm). 功能/应用范围：针对飞秒型(M......
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主要技术指标：简单稳定的KLM锁模，易于使用，可靠性高棱镜或GTI补偿GVD，获得类孤子、接近转换极限的脉冲X-Wave宽带腔镜组,覆盖700-1000nm的调谐范围(包括飞秒、皮秒组件)采用VerdiV18泵浦......
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